高純氮:在集成電路、半導體和電真空器件制造中用作保護氣和運載氣，化學氣相淀積時的載氣，液體擴散源的攜帶氣，在高溫擴散爐中用作器件的保護氣。高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發(fā)等工序中，作為置換、干燥、貯存和輸送用氣體。顯像管制造中要求氮氣純度為99.99%以上。在航天技術中，液氫加注系統(tǒng)需要先用高純氮置換，再用高純氦置換。
技術指標：執(zhí)行國家標準 GB/T3634.2-2011
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序號 |
指標名稱 |
技術要求 |
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1 |
氮氣（N2）純度，10-2 |
≥99.999 |
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2 |
氧（O2）含量（體積分數(shù)），10-6 |
≤3 |
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3 |
水分（H2O）含量（體積分數(shù)），10-6 |
≤3 |
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4 |
氬（AR）含量（體積分數(shù)），10-6 |
無 |
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5 |
一氧化碳（CO）含量（體積分數(shù)），10-6 |
≤1 |
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6 |
二氧化碳（CO2）含量（體積分數(shù)），10-6 |
≤1 |
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7 |
甲烷（CH4）含量（體積分數(shù)），10-6 |
≤4 |
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8 |
氫氣（H2）含量（體積分數(shù)），10-6 |
≤10 |
